Reactive sputtering of YBaCuO thin films on polycrystalline zirconia substrates: optimization results^*

¹ Laboratoire de Génie Électrique de Paris, Universités Paris VI et Paris XI (URA 127 CNRS), Supélec, Plateau du Moulon, 91190 Gif-sur-Yvette, France
² Unité mixte de Physique CNRS/Thomson-CSF (UMR 137), Domaine de Corbeville, 91404 Orsay, France

Corresponding author: degardin@supelec.fr

Received: 13 June 1997
Accepted: 7 October 1997
Published online: 15 January 1998

Abstract

In situ elaboration of YBaCuO thin films, on polycrystalline yttria doped zirconia substrates, has been optimized. A reactive sputtering model has been developed and the electrical conductivity of the substrate has been studied as a function of temperature and doping. The J_c value of at 77 K, measured on microbridges, is among the best reported in the literature for this substrate type.

Résumé

L'élaboration in situ de films minces d'YBaCuO, sur substrats de zircone polycristalline dopée à l'oxyde d'yttrium, a été optimisée en développant un modèle de pulvérisation réactive et en étudiant la conductivité électrique du substrat en fonction du dopage et de la température. La valeur de à 77 K, mesurée sur microponts, se situe parmi les meilleures citées dans la littérature pour ce type de substrat.